简介：软X射线短波段区域（1～10nm）高反射率多层膜的制备对软X射线光学的研究具有十分重要的意义。该波段要求镀膜过程中能减小界面扩散，实现膜厚控制，从而严格限制了制备技术的应用。介绍了软X射线短波段多层膜的发展现状和制备技术，主要包括蒸发沉积、溅射沉积、脉冲激光沉积技术和激光分子束外延，对这些方法进行了比较并提出了今后的研究方向。
简介：
简介：日本东北大学原子分子材料科学高等研究机构山中幸仁副教授领导的研究小组和该大学金属材料研究所及东北学院大学合作，共同开发了利用气体喷雾法的软磁性非晶合金纳米线（直径100nm-3μm）的低成本批量生产技术。并用这种纳米线试制了磁传感元件。测试结果显示，该元件具有电阻值随外加磁场变化而变化的磁阻效应。
波长小于10nm的软X射线多层膜制备技术
能低成本、净成型制备磁体的软磁复合材料
日本东北大学等用钴铁软磁纳米线试制磁传感器
