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  • 简介:<正>在关于材料先进科学和工艺的第三届国际会议上,日本超级研究所(SSI—SupersiliconcrystalResearchInstitute)发布了迄今最先进的直径400mm(16英寸)硅单晶片制造工艺。SSI是日本于1996年组建的、有日本政府财政支持的旨在进行400mm硅单晶生长和晶片加工研究开发的集团。组建时,SSI的官员曾预料,2008年开始使用400mm硅片,但在这次会议上,他们认为要到2014年才会开始使用。SSI的权威人士称,他们已开发出

  • 标签: 单晶片 SSI 加工研究 政府财政支持 硅单晶 制造工艺
  • 简介:<正>日本产业技术综合研究所日前发布消息说,他们通过自行开发的"大容量高纯度臭氧发生装置"生产出浓度高于90%的臭氧,并成功使用这种超高浓度的气体在400摄氏度较低温环境下制造出高品质的氧化膜。

  • 标签: 硅氧 臭氧发生装置 日本产业 综合研究所 低温环境 鼻高