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SSI研制出400mm硅单晶片

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摘要 <正>在关于硅材料先进科学和工艺的第三届国际会议上,日本超级硅研究所(SSI—SupersiliconcrystalResearchInstitute)发布了迄今最先进的直径400mm(16英寸)硅单晶片制造工艺。SSI是日本于1996年组建的、有日本政府财政支持的旨在进行400mm硅单晶生长和晶片加工研究开发的集团。组建时,SSI的官员曾预料,2008年开始使用400mm硅片,但在这次会议上,他们认为要到2014年才会开始使用。SSI的权威人士称,他们已开发出

DOI n495y0q9dy/1563735

作者盛柏桢

机构地区不详

出处《半导体信息》 2003年3期

关键词单晶片 SSI 加工研究政府财政支持硅单晶制造工艺

分类 [电子电信][物理电子学]

出版日期 2003年03月13日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）