镀膜对金属材料表面二次电子发射系数的影响

材料表面产生二次电子发射会对器件的正常工作和使用寿命产生重大影响,因此对于抑制二次电子发射系数的研究显得越来越重要。该实验中选择通过改变材料表面结构的方法抑制二次电子发射,对材料表面进行真空溅射镀膜,在表面镀上一层二次电子发射系数较小的材料,实验中选择一层40nm厚的Ta-C薄膜。实验结果表明：未经处理的基片二次电子发射系数峰值为2.15左右,经过镀膜处理的样片二次电子发射系数峰值为1.39,减少了35%,这说明通过镀膜的方法能有效减小材料表面二次电子发射系数。