学科分类
/ 2
35 个结果
  • 简介:文章尝试了采用真空二流体蚀刻试做35μm/35μm线路的可行性。经过实验证明:采用DES工艺&搭配合适的蚀刻设备,如真空二流体蚀刻,可以把细线路制作等级提升到35μm/35μm;能获得大于3的蚀刻因子,局部区域的蚀刻因子更是高达14.99-11.82。此外,3μm铜箔可以获得集中度更高的线宽&更高的蚀刻因子。

  • 标签: 细线路 真空二流体蚀刻
  • 简介:简要说明多层板去环氧腻污和凹蚀的重要性,比较几种去环氧腻污的优缺点。根据试验,确定浓硫酸凹蚀10μm-20μm的工艺,从而满足客户要求。

  • 标签: 试验 生产 正凹蚀 多层板
  • 简介:随着晶片封装技术的不断发展,要求基板线路的精细度越来越高,50μm/50μm以下的COF(ChiponFlex)精细线路将成为未来发展的主流,但精细线路的制作一直是FPC生产上的难点,当线路在50μm/50μm以下时,成品率较低难以满足量产化的要求。本文中以公司的现有设备为基础,通过传统片式生产线,选用12μm铜箔作为基材、15μm干膜作为抗蚀层,使用玻璃菲林进行图形转移,同时通过表面处理、改变曝光、显影和蚀刻参数等,对30μm/25μm的精细线路进行研制,并通过金相切片测试仪、三次元测试仪、AOI(AutomaticOpticalInspector)等对产品进行检查。结果显示,线宽、蚀刻系数和成品率都能达到小批量生产的要求。

  • 标签: COF 片式制作 精细线路 表面处理
  • 简介:<正>艺精YZB-600Ⅰ自动大功率曝光近两年已有几十台推向用户,为了使设备能在行业中特别是各个用户手里充分发挥作用,保证设备的高效产出,现特介绍设备常用的保养方法,供用户参考。1要科学的使用设备任何设备及电器产品,不正当的操作必将加快功能的失效。曝光也不例外。在使用设备前一定要仔细的阅读《使用说明书》,工艺人员更应探索一条高效使用设备的工艺操作方法,即保证工艺操作的正确性,又能不损伤设备的

  • 标签: 大功率曝光机 艺精YZB-600I 维护
  • 简介:AMD日前发布了RadeonR3系列固态硬盘,首次采用TLC闪存,而原来定位主流的RadeonR7系列却直接下架了。

  • 标签: AMD SSD TLC 硬盘 闪存
  • 简介:文章主要针对一种厚孔铜(≥60μm)产品的制作工艺进行研究,如何在将孔铜控制至≥60μm以上,而电镀面铜能有效控制在60μm以下,并进行顺利制作出精细线路。本次主要采用了全板加成、局部加成、全板加成+局部加成三种工艺分别进行试验测试评估,最终采用全板加成+局部加成相结合的工艺方法最佳,产品质量及可靠性均符合产品要求。

  • 标签: 厚孔铜 面铜厚度 电镀 精细线路 全板加成 局部加成
  • 简介:以发展PCB设备与CNC工具为主的东台精,由于今年产业景气同时转强,订单应接不暇,日前即便把一些短单剔除掉,目前手中累积的订单仍然满载,到明年农历年前,公司必须以加班赶工生产方式,才能消化完毕。

  • 标签: 订单 东台 公司 产业 生产方式 发展
  • 简介:普通曝光黑片(银盐片)尺寸稳定性随存放环境温湿度的变化影响较大,而铬版玻璃底片作为图形转移载体,其尺寸稳定性基本不受温湿度变化影响,对制作精细线路具有明显优势。文章主要介绍玻璃底片在未来PCB和FPC精细线路中的应用前景及制作25μm线宽关键点。

  • 标签: 铬版 玻璃底片 银盐片 图形转移
  • 简介:2012年采用MIPI的集成电路出货量大约为30亿块,但其中只有1亿块基于高性能、低功率的M—PHY规范在未来几年中,这种情况必定会改观,因为M—PHY将用于开发高端移动设备,提供更高性能、高效功率管理方案、有效抗击RF干扰及实现低RF辐射

  • 标签: 移动性能 PHY 物理层 测试 创新 RF干扰
  • 简介:本文中介绍了一种速率为1.25Gbit/s的激光二极管驱动器的设计。为了保持工作中的稳定平均输出功率和恒定消光比,采用了温度补偿电路和自动功率控制电路。介绍了调制主通道的结构和其他功能模块的结构和实现原理,并介绍了部分电路和仿真结果。芯片采用0.35μmBiCMOS工艺实现.实测结果表明在+3.3V供电电压,1.25Gbit/s速率下,电路输出眼图清晰,可以提供5~85mA调制电流。可以满足光纤通信系统和快速以太网的应用。

  • 标签: 激光驱动器 自动温度补偿 自动功率控制
  • 简介:和舰科技(苏州)有限公司与全球领先的非挥发性记忆体设计公司常忆科技近日共同宣布,已成功开发拥有更高的耐久力和更小的记忆体面积等优点的0.18μm浮动闸嵌入式闪存记忆体技术。通过与常忆科技的密切合作,和舰完成了此项非挥发性记忆体工艺的开发和品质验证,同时开发了不同存储密度的闪存记忆体并达成高良率目标。

  • 标签: 和舰科技 记忆体技术 嵌入式闪存 工艺开发
  • 简介:Ucamco公司推出全新光电系统的NanoAF-100激光光绘图,发出的光斑大小仅1.3μm,分辨率高达101600ppi,绘制线条最小尺寸降低到4μa。该光绘是使用花岗岩平台以及直线电机和空气轴承的非接触式运动系统,保证稳定性和高精度重复性。光学系统的高速高精度自动对焦功能,在大幅面1200mm×1600mm的膜的功能精度保证1gm范围内。速度极快,一张460mm×610mm膜面图形完成不超过15分钟。

  • 标签: 激光绘图机 高分辨率 自动对焦功能 高速高精度 光电系统 最小尺寸
  • 简介:1.前言近年来,在双面印制板和多层用内层板的制造过程中,随着光敏阻焊剂的推广应用,为了避免两面相互影响、产生重影(GHOSTIMAGE),要求基板必须具有屏蔽紫外线(UVBLOCK)的功能。在印制板检测方面,自动光学检测(AOI)

  • 标签: UV屏蔽 覆铜板 改进型 阻焊剂 光量计 穿透率
  • 简介:PCB的通孔镀铜一向作为层间互连与零件脚插焊的重要工具,然而20年来的技术演变已使得盲孔将逐渐取代通孔。本次拆解亲眼见NI公司所有ENIG焊点均无缩锡的画面,不得不对其基础研究的到位与现场执行的贯彻,打心底里肃然起敬。拆解在CPU/A6试样区,可见Ni-5主板1mil线宽的细线,与其非氧化式之取代性皮膜。

  • 标签: 拆解 收获 手机 技术演变 ENIG NI公司
  • 简介:东台与台湾省经济部技术处共同投资6000万新台币,研发雷射钻孔,预计在明年中开发完成,评估在开发完成第一年后,将可供应台湾PCB产业15—20台雷射钻孔,取得台湾5—10%市占率,同时增加公司约2.5亿元产值,未来会以每年以30%的成长率扩展国内市场打破日本、美国等国外厂商寡占市场的情形,降低台湾厂商采购雷射钻孔成本。而本次合作案除了由东台主导外,合作厂商包括雷科、均豪、扬朋及帆宣等公司。

  • 标签: 钻孔机 雷射 开发 预计 台湾厂商 国内市场
  • 简介:随着高密度互连(HDI)应用的不断扩大,分辨率和定位度已成为电路制造厂家面临的重大挑战。高密度互连要求分辨率和定位度两者具有更高的精确度。IPC技术发展规划表明,到2007年,要求公差有5倍的改进,从而要求成像技术应有显著改进。此外,全球化和工业联合趋势也要求任何改进技术必须能够提供高产量和生产经济性。开发出的新技术应使电路制造厂家能够满足未来印刷电路板的各种要求。

  • 标签: HDI分辨率 曝光机 对位度
  • 简介:10月19日,广东省环境保护厅发布《旗利得电子(东莞)有限公司改扩建项目环境影影响报告受理公告》.旗利得电子(东莞)有限公司拟在现有厂房内新增部分设备和生产线,新增线路板生产能力24万平方米/年,从而使全厂线路板总生产能力达到平方米/年(其中双面板65平方米/年、多层板43平方米/年)。

  • 标签: 生产能力 线路板 受理 PCB 环境保护厅 环评