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光照对光刻机焦平面漂移影响的研究

作者：张玉虎聂彬王军帽岳浩
学科：文化科学 >
创建时间：2016-04-14
出处：《科技中国》 2016年第4期
机构：(合肥京东方光电科技有限公司安徽合肥230012)

简介：摘要研究了光刻机曝光过程中，热效应引起焦平面发生漂移的原因，并对热效应过程进行分析，通过光照时间与冷却时间的关系对应焦平面漂移关系，及时进行焦平面补偿，以及对成像系统进行温度控制，可对焦平面漂移进行有效控制
标签：

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先进节点接触层照明类型优化解决光刻制造要求

作者：刘娟
学科：电子电信 > 物理电子学
创建时间：2016-10-20
出处：《电子与封装》 2016年第10期

简介：先进节点逻辑集成电路制造是当前工业界的领先工艺。为实现接触（Contact）层的光刻工艺,需要从两个关键方面进行处理：解析度和全间距的共有工艺窗口。离轴照明＋相移掩模＋亚解析度辅助图形多种解析度增强技术的组合使用是解决光刻成像的方法。从优化接触层离轴照明的类型方面解决光刻制造工艺的问题。
标签：离轴照明照明类型工艺窗口掩模误差增强因子

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