简介：摘要：我们常见的镀膜方法有物理气相沉积镀膜（简称PVD）和化学气相沉积镀膜（简称VCD）。物理气相沉积镀膜主要分为三类：真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜。本文介绍的镂空镀膜涉及的镀膜方法是真空溅射镀膜。真空溅射镀膜技术是目前大批量镀膜玻璃生产中最主要的技术之一，它具有膜层厚度均匀、基片温度低、沉积速度快等一系列优点。镂空镀膜与传统追求的膜层均匀完整有所区别，简而言之，镂空镀膜就是采用不同的方法使完整的膜层表现出镂空图案效果。
简介：摘要：真空磁控溅射镀膜技术是目前大批量镀膜玻璃生产中最主要的技术之一，它具有膜层厚度均匀、基片温度低、沉积速度快等一系列优点，但是由于真空磁控溅射镀的设备工作特点，生产过程中镀膜腔室很容易在辊道底板上形成积渣，若积渣与底板结合不紧密，很容易拱起或者崩渣，当玻璃传送到拱起或者崩渣处就会造成玻璃表面划伤，甚至导致玻璃走斜与其他玻璃相撞，造成腔室破玻璃的严重事故。本篇文章主要对真空磁控溅射镀膜底板崩渣原因及常见处理方法进行探讨，希望可以对玻璃深加工企业预防镀膜底板崩渣有一定的参考价值。
浅谈真空磁控溅射镂空镀膜的方法
浅谈真空磁控溅射镀膜底板崩渣原因及常见处理方法
