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17 个结果
  • 简介:对K3±δC60多晶薄膜进行了同步辐射光电子谱研究。入射光子能量为17-86cV。实验发现K3±δC60光电子谱的HOMO-1,HOMO及LUMO等导出能带的谱峰强度均随入射光子能量的增加而呈现振荡的性质,与纯C60的光电子谱峰随入射光子能量变化的趋势相似。结果C60分子独特的笼状几何结构,认为其电离截面的变化是由于K3±δC60的末态电子在C60分子笼内形成球状驻波引起的。以驻波的边界条件为基础进行理论计算,得到的电离截面极小值对应的光子能量与实验得到的结果符合良好。

  • 标签: K3C60 光电离截面 电子角动量 球状驻波 多晶薄膜 富勒烯
  • 简介:根据K在C60晶体中的扩散系数分析了在C60(111)单晶解理面上制备K3C60单晶膜的实验条件。对制备出的样品进行了角分辨光电子谱研究。结果表明样品确实为K3C60单晶,并首次观察到K3C60的能带色散。

  • 标签: 制备 表征 K3C60 单晶薄膜 角分辨光电子谱 能带色散
  • 简介:本文描述了用于测定中子、γ辐射墙中的中子、γ辐射的吸收剂量或比释动能的双剂量计的γ辐射校准,并测定了各项修正因子,给出了剂量计的校准因子其不确定度为1.4%,并校准了BIM提供的传递仪器,进行了比对,其结果相差小于1.0%。

  • 标签: 双剂量计 校准 比对 组织等效
  • 简介:针对我国目前有大批高活度60Co放射源面临退役的情况,对其存在的问题进行了分析,并对其解决方法进行了探讨。

  • 标签: 放射源 退役 辐射安全
  • 简介:从事故背景、过程、放射病理学、调查结果、结论和经验教训等方面对2000年泰国北揽府医用60^co源辐射事故进行了介绍。该辐射事故的实践表明:医疗设备供应商未获得行政许可接收闲置放射源,并擅自转运、储存于无安全保卫措施的仓库,监督检查和执法工作弱化,是事故发生的主要原因。科学、有效的辐射应急计划,训练有素、装备精良的应急响应队伍,创新的措施和方法,为在复杂地点快速回收放射源并对受照人员开展合适、充分、有保障的医疗救助提供了保障。本文可为辐射事故应急提供借鉴和参考。

  • 标签: 医用 60^co源 辐射事故 许可 放射源 废品
  • 简介:新一代专用设备中,作为其关键的结构材料7A60铝合金的使用温度可能会提高到T1,为了研究升高温度对铝合金材料寿命的影响,开展了T2(T2>T1)温度下铝合金材料的持久强度试验,蠕变试验以及断裂机理的分析研究,得出以下结论:(1)T2温度下铝合金材料10年的持久强度为σ1T20年(99%)=(1.58±0.17)σ0MPa;(2)在温度为T2,总变形量为1.5%时,7A60铝合金材料10年时的蠕变极限为:σ1T2.5%(10年)=1.51σ0MPa;(3)随着使用温度从T0升高到T2,铝合金材料10年时的持久强度和蠕变极限分别降低了18%和12.2%,降到1.41σ0和1.51σ0;(4)在温度为T2,不同应力水平下,铝合金材料的断裂机理相同,均在断口中部呈现台阶状的裂纹扩展区域。

  • 标签: 温度 持久强度 蠕变极限 寿命
  • 简介:测量了C60单晶(111)解理面法向发射的角分辨光电子谱。利用同步辐射光源研究了对应于分子轨道HOMO及HOMO-1的能带的色散关系。实验观察到HOMO和HOMO-1能带在Г-L方向存在明显的色散,最大色散分别为0.27eV和0.42eV色散曲线与理论电子结构基本符合。

  • 标签: C60单晶 价带色散 同步辐射 光电子谱 富勒烯 电子结构
  • 简介:在C60单晶(111)解理面上制备出厚度约30mm的K3C60单晶膜。利用同步辐射光源,在低温下(约150K)测量了样品法向发射的角分辨光电子谱。观察到K3C60导带和价带明显的色散。导带的光电子谱峰可清晰分辨出4个子峰,这些子峰的最大色散超过0.5eV,并且色散曲线与K3C60的一维无序晶体结构模型下的能带理论基本吻合,只是子带间隔差异较大。

  • 标签: K3C60 单晶薄膜 同步辐射 角分辨光电子谱 导带结构 能带理论
  • 简介:用NPL防护水平次级标准NE2550剂量率仪对国防计量系统和有关厂矿的防护水平60Co和187Csγ辐射场进行了照射量率的测量和反平方律的检验,并作了照射量率的比对。137Csγ辐射场照射量率最大相差+3.6%(2.58×10-6-2.58×10-4Ckg-1h-1),而60Coγ辐射场最大相差分别为+1.4%(2.58×10-4-2.58×10-3Ckg-1h-1)、+9.9%(2.58×10-6-2.58×10-4Ckg-1h-1)和+24.5%(2.58×10-7-2.58×10-6Ckg-1h-1)。60Co和137Csγ辐射场的照射量率,在一定的距离范围内反平方律在±5%以内符合。

  • 标签: 照射量率 CO CS 防护水平 Γ辐射 辐射场
  • 简介:ThisworkinvestigatedC2F6/O2/ArplasmachemistryanditseffectontheetchingcharacteristicsofSiCOHlow-kdielectricsin60MHz/2MHzdual-frequencycapacitivelycoupleddischarge.FortheC2F6/Arplasma,theincreaseinthelow-frequency(LF)powerledtoanincreasedionimpact,promptingthedissociationofC2F6withhigherreactionenergy.Asaresult,fluorocarbonradicalswithahighF/Cratiodecreased.Theincreaseinthedischargepressureledtoadecreaseintheelectrontemperature,resultinginthedecreaseofC2F6dissociation.FortheC2F6/O2/Arplasma,theincreaseintheLFpowerpromptedthereactionbetweenO2andC2F6,resultingintheeliminationofCF3andCF2radicals,andtheproductionofanF-richplasmaenvironment.TheF-richplasmaimprovedtheetchingcharacteristicsofSiCOHlow-kfilms,leadingtoahighetchingrateandasmoothetchedsurface.

  • 标签: 等离子体化学 放电特性 蚀刻 薄膜 双频率 功率LED