简介：人类已经清楚地认识到,自身在生产生活中排出的化学物质的数量远远超出了地球自身的净化能力,人类的生存环境被严重破坏,人类文明遇到了严峻的挑战。这就要求清洗行业的从业人员在选择清洗剂时,不仅要考虑清洗能力,还要考虑安全环保性,防止清洗剂损害操作人员的健康,尽量降低对环境的污染。

简介：本文介绍有关水基清洗剂的水洗设备,水基清洗剂的漂洗设备、漂洗工艺,水基清洗的分析和监测系统,以及药品浓度控制系统的改进措施.

简介：面向电子和高科技制造运营的环保型精密清洗产品供应商Kyzen在达拉斯举行的SMTA博览会暨技术论坛上隆重推出其针对无铅助焊剂残渣的AQUANOXA4625水基清洗剂。

简介：影响清洗工艺的因素主要有四个：化合物、温度、能量和时间。不同因素的结合可确定元件清洗的洁净度。本文对每种类型清洗工艺的基本因素进行了调查研究，其对于你确定哪一种工艺最适合于你的应用需求是很有帮助的。

简介：文章阐述了半水基清洗剂的组成特点、类型、优缺点等基本概念,并对它的清洗工艺特点及应用情况做了介绍.

简介：本文介绍了水基金属清洗剂的性能,组成及水基金属清洗剂的清洗机理和选用.

简介：本文就COG-STN等精细线路高档LCD液晶屏狭缝液晶、电极引脚及玻璃表面的清洗,从非ODS清洗剂、清洗工艺和清洗设备三个方面进行了研究,结果表明使用半水基非ODS清洗剂Fisher2000-1和UEA-8090八槽式水基超声波清洗机清洗能满足产品品质的要求.

简介：本文介绍了设计水基清洗设备时为提高零件清洁度应采取有效途径方面的经验.实践证明通过正确利用超声波清洗、机械摇动、高压定点喷淋、设置油水分离器、磁性分离器、过滤循环装置、风刀吹水装置等措施可使清洗洁净度得到明显提高

简介：位于美国马萨诸塞州波士顿的吉列公司是一个高产公司,每天都要生产数以百万计的刀片.但是现在吉列公司需要一种新的清洗技术清洗剃刀和刀刃,以替代传统的三氯乙烯(TCE)溶剂清洗法.吉列刀片为不锈钢制造,极其锋利.按照要求,合格的刀片表面应没有油垢、加工物的残渣、清洗剂的残余物,以便于下一道工序进行加工.

简介：本文论述了光学元件的清洗及清洗剂的研制机理.

简介：为电子和高科技制造业提供环保精密清洗产品的领导厂商Kyzen公司日前宣布，将在NEPCONChina2012展会IB01号展台推出最新的水基清洗产品——EXakleanE5321。

简介：本文主要介绍了水基清洗技术在彩管成型荫罩黑化前清洗中的应用.介绍了水基清洗技术的清洗原理、工艺特点,以及对水基清洗剂的一般要求及实际使用中的注意事项.

简介：2008年，合明科技全力投入公司人力、物力、财力，集中研发部精湛技术进行全系列水基清洗剂的开发，经过客户SMT在线清洗、离线清洗、SMT设备清洗等反复试样验证，清洗力非常好，至此，合明科技全系列水基清洗剂正式研发成功。同时，此发明也通过中国专利局申请，成为合明科技继无铅锡膏发明后的又一项发明专利，这对电子制造行业来说，无疑又是一大喜讯。

简介：一、焊接理论1、什么是焊接焊接是利用比被焊金属熔点低的焊料，与被焊金属一同加热，在被焊金属不熔化的条件下，熔融焊料润湿金属表面，并在接触面上形成合金层，从而达到牢固的连接的过程，如图1所示．

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简介：PCB的发展，当双面板无法容纳下所有线路时，势必走向多层板，而将两双面板或多个双面板利用介质接合威多层板的制程，即称为压合。压合制程影响质量最重要的3步骤：叠板、热压、冷压。下文主要讨论的是PCB多层压合的工艺参数及控制的一些方法，经由理论来设计各制程的参数，并由材料性质着手，配合制程参数：温度、压力、真空来作一探讨。

简介：功率半导体器件（亦称电力电子器件）、半导体集成电路和光电器件是当前我国七个战略性新兴产业之一的＂新一代信息产业＂的基础和关键技术。同时,功率半导体器件还破认定为融合工业化和信息化的最佳产品。小久前出版的《功率半导体器件基础》一书,对功率半导体领域相关专业的本科生、研究生作为入门教材或专业研究人员、工程师作为案头参考资料,

简介：逆变器是交流输出型uPs中的核心部件，逆变技术亦是uPs技术中的关键部分，也是光伏发电、风力发电及特种电源（工业电源）等的研究重点。是从事电力电子设备研发、生产和应用的电源技术工作者应当熟悉的内容。本刊从今年1月份起以“逆变技术基础”为题开展技术讲座，加强其理论分析，冀望对广大读者有所裨益。

简介：分析了作为基础数据网的分组交换数据网、数字数据网、帧中继网、IP网和ATM网的各自特点及其发展现状，对基础数据网的发展策略提出了几点建议。

简介：罗素-英国的哲学家、逻辑学家和诺贝尔奖获得者曾经精妙地写道：“改变是一回事，过程是另外一回事。”电信业也一样，正经历着真实的改变。技术的演进几乎和思考的速度一样，用户的期待也不停地转变。