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37 个结果
  • 简介:在不同的溅射功率和溅射时间下,使用磁控溅射设备制备了系列薄膜Si/Fe(P1W,T1s)和Si/[Fe(P2W,T2s)/NiO(P3w,T3s)]10。利用小角X射线衍射测量了样品的衍射强度分布,并分别计算出了Fe和NiO在不同溅射功率下的沉积速率。实验结果表明,在测量范围内沉积速率与溅射功率之间存在线性关系。

  • 标签: 磁控溅射 小角X射线衍射 沉积速率
  • 简介:利用脉冲激光沉积装置在钼筒上沉积镧氧膜,通过俄歇能谱仪确定其表面成分并进行定量分析,结合离子刻蚀对薄膜进行剖面分析,实验结果表明,除去薄膜表面少许C,O吸附外,本制备方法污染小,定量分析证明薄膜为富镧的镧氧薄膜。

  • 标签: 热阴极 薄膜 脉冲激光 表面
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  • 简介:模型与实验是人类在探究物质世界的过程中逐渐成熟起来的两大有力武器,请随我一起走近它们.一、模型——走近物质世界两极的桥梁建立模型是物理学研究的重要手段之一.从某种意义上说,整个物理学的发展史就是一个新旧模型的替换史.在人们认识自然的进程中,面对陌生、复杂的结构,建立一个大家所熟知的、直观的模型,

  • 标签: 物质世界 武器 认识自然 物理学 模型 发展史
  • 简介:本文利用尖端集电原理,在射频平衡磁控溅射过程中通过施加衬底偏压沉积了Cu20薄膜。然后用原子力显微镜和掠入射x射线衍射仪对薄膜样品的形貌和结构进行表征。研究结果表明,不管施加的是正偏压还是负偏压,所制备Cu2O薄膜的形貌和结构相差不大,均呈现出疏松多孔和(111)择优取向的特点。进一步地,从尖端集电的角度对平衡磁控溅射沉积过程中的偏压效应进行了合理解释。

  • 标签: 尖端集电 偏压 多孔薄膜 磁控溅射
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  • 简介:考点一:质量1.质量是物体的一种属性.任何物体都具有一定的质量,即含有物质的多少,它不会因为形状、状态、位置的改变而改变.

  • 标签: 考点分析 物理属性 物质 质量 物体
  • 简介:制作了准直型、L型及Z型等不同形状,不锈钢、花岗岩和水泥等不同材质的裂缝,测量了缝宽范围0~1.0mm、气体流速范围0~10m·s-1时的颗粒透过率,初步研究了亚微米颗粒在裂缝中的沉积行为.结果表明:准直光滑裂缝中颗粒沉积机理较简单,可以用经验公式较好地描述;曲折裂缝中碰撞机理的作用主要受流速的影响.材质对透过率的影响主要表现为工作面粗糙度的影响;对于工作面粗糙的裂缝,最易透过流速为1.0m·s-1,最易透过粒径为0.39μm.

  • 标签: 放射性颗粒 裂缝 沉积行为 泄漏 透过率
  • 简介:采用Skupsky理论作为讨论能量沉积均匀问题的基础。把不均匀性σnms分解为两个因子的乘积:一个因子取决于激光系统的几何配置:另一个因子取决于单束激光形成的能量沉积分布。按照几何光学的光路方程,追踪激光在靶球等离子体中的轨迹,计算激光在光路轨迹上的能量沉积(通过逆韧致吸收机制),求得激光在靶球上能量沉积的空间分布,并在此基础上进行能量沉积的均匀性研究。

  • 标签: 能量沉积分布 不均匀性 激光系统 耦合 光球 几何配置
  • 简介:纳米金刚石薄膜的沉积实验在自行研制的热丝化学气相沉积系统上完成。基体为金刚石微粉研磨和酸蚀后的硬质合金片,反应气体为CH4和H2混合气,V(CH4):V(H2)=1%-4%,基体温度800-1000℃,沉积时气压为0.8~2.0kPa。SEM观察表明,影响金刚石膜的表面形貌及粗糙度的关键参量是基体温度、反应气压及含炭气体的浓度,这些参数都会影响到薄膜的纯度、结晶习性和晶面完整性。沉积纳米金刚石薄膜工艺是通过高密度形核以及抑制金刚石膜在沉积过程中的晶粒长大来实现的。

  • 标签: 化学气相沉积系统 纳米金刚石薄膜 热丝法 反应气体 基体温度 金刚石膜
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  • 简介:本文研究物质的宏观质量量子性及其量子规律,提出理论预言:(1)物质的微观基本结构中存在着基本量子──初始基本粒子;(2)物质存在着时空量子尺度。

  • 标签: 宏观质量量子性 Planck质量 时空量子性
  • 简介:相对于一般的硬物质(如金属、半导体,陶瓷等),软物质是介于理想固体和流体之间的复杂状态物质(又称复杂流体,软凝聚态物质),如生命物质、聚合物、液晶、土壤、胶体、薄膜、颗粒物质、多孔岩层、石油等。软物质的物理性质主要由其介观(介于宏观和微观之间)尺度的大分子或基团的结构和性质决定,现有的物理和力学理论还不能很好地解释其运动规律和行为。本研究主要包括3个方面的内容:(1)以研究软物质的宏观力学行为为研究对象的软物质力学(唯象);(2)描述软物质的介观量子力学理论;(3)软物质介观尺度的时空结构。另一方面,统称分数阶时间导数、LeVy稳态分布、分数布朗运动、Hurst指数、I/f能谱、分形等数学方法为分数阶数学。

  • 标签: 分数阶导数 软凝聚态物质 物理性质 运动规律
  • 简介:用离子束技术探讨了Si表面纳米Ti薄膜制备的可行性以及Ti薄膜组织结构与离子束工艺之间的关系。实验进行试样表面预处理、轰击离子能量、离子密度、温度、沉积时间等离子束工艺参数对单晶Si(111)表面沉积的Ti薄膜结构的影响。采用原子力显微镜(AFM)和扫描电子显微镜(SEM)分析了Ti膜表面晶粒形貌,并用X射线衍射仪(XRD)和俄歇电子谱仪(AES)分析了Ti膜的结构和成分。由于残余气体的影响,Ti膜发生了不同程度的氧化,随温度升高和轰击离子强度增加氧化愈加明显。

  • 标签: 表面离子束辅助沉积 纳米薄膜 晶粒结构