简介：摘要本文主要介绍维修1310nm波长光信号传输过程中，常遇见故障的分析思路及故障排除方法。

简介：

简介：英特尔继续依托其“Tick-Tock”策略，已经将企业、桌面、移动平台主流处理器制造工艺提升45nm。2007年1月初，英特尔内部率先研制出世界第一款45nm制造工艺处理器，时隔一年多的时间，英特尔已经基本完成45nrn制造工艺战略部署。

简介：摘要目的探讨1 064 nm/755 nm双波长激光脱毛的临床疗效。方法2017年1—12月，吉林大学中日联谊医院皮肤科脱毛患者60例，男7例、女53例，年龄18~52(30±7)岁。用双波长激光器对同一患者的对称部位或2个不同部位分别用1 064 nm或755 nm激光进行脱毛治疗，每6周1次，共6次。治疗结束6周后评估疗效、不良反应、患者满意度。结果1 064 nm和755 nm激光脱毛总有效均为58例，占96.7%，各部位激光脱毛有效率在1 064 nm和755 nm两组比较差异无统计学意义(P>0.05)。1 064 nm激光色素沉着1例，755 nm激光色素沉着2例，两者比较差异无统计学意义(P>0.05)；所有患者均未出现色素减退、水疱及瘢痕。1 064 nm组患者满意57例，占95.0%，755 nm组患者满意59例，占98.3%。结论1 064 nm/755 nm双波长激光脱毛均安全有效。

简介：Duetoitsmajorroleinmaintainingthewater-retainingpropertiesoftheepidermis,ceramideisofgreatcommercialpotentialincosmeticsandpharmaceuticalssuchashairandskincareproducts.However,currentsyntheticapproachesforceramidearetediousandtime-consumingforindustrialapplications.Therefore,itisdesirabletofindanalternativecost-efficientandhighly-yieldmethodforobtainingthevaluableproducts.Inpresentstudy,thepotentialofproducingceramidethroughenzymatichydrolysisofsphingomyelinwithenzymeirradiatedby808nmlighthasbeenstudied.Withenzymeirradiatedby808nmlight,itsactivitycanbeenhancedandreactionspeedcanbeincreasedsignificantly.

简介：关于金刚石的生长机制的讨论从金刚石的人工合成之前就已经开始了，至今仍然是许多学者感兴趣的题目，在过去的几十年中先后提出过几个重要的理论，比较重要的有。

简介：Wepresentanovelandsimplemethodtoobtainanultrawidefreespectralrange(FSR)siliconringresonatortogetherwithatuningrangecoveringtheentirespectrumfrom1500to1600nm.AringresonatorwithalargeFSRtogetherwithahighQfactor,hightuningefficiency,andlowfabricationcostandcomplexityisdesiredformanyapplications.Inthispaper,weintroduceanovelwaytomakesucharingresonator,whichtakesadvantageofthewell-knownresonance-splittingphenomenon.ItisasingleringresonatorwithanFSRofmorethan150nmaround1550nmandwhichhasaneasythermo-optictunabilitythatcanproduceatuningrangearound90nmorevenmore.Moreover,thedeviceissimpletoimplementandcanbefabricatedinstandardcomplementarymetal-oxidesemiconductortechnologywithoutrequiringanykindofcomplicatedprocessingorextramaterials.Thepotentialapplicationsincludesinglemodelasercavities,wavelengthdivisionmultiplexingfilters,(de)multiplexers,opticalsensors,andintegratedreflectors.

简介：摘要：压力传感器是获取物体压力物理量的一种工具，它是现代工程机械、海洋勘察、工业生产、气象监测、医疗研究、交通运输等系统中不可或缺的组成部件。它的应用遍布各个领域，如煤矿行业、运输行业、机械制造、医疗设备、现代化工业、航空航天等。传统的压力传感器在工业生产中不能快速、直接地对自身的测量数据指标进行监测，同时也无法实现在线的控制。但智能无线压力传感器的应用是不一样的，它的应用不仅可以直接测量生产过程中与自身质量指标有函数关系的一些量，还可以利用神经网络建立数学模型，通过数学模型进行精确计算，这样可以长期确保传感器测量数据的准确性，并对自身出现的故障进行判断。而现代无线技术更是简化了规模性传感器安装的难度，更适合替换已有系统中的传统压力传感器，实现更高精度的测量。

简介：摘要：由于采煤机等设备在煤矿生产中的应用，使采煤工作面在生产中产生的粉尘浓度大大增加，严重污染了煤矿生产环境，工人尘肺病引起职业病，粉尘浓度增加容易引起煤尘爆炸，威胁矿井生产安全，因此，工作面降尘和清洁发展技术对煤矿安全高效生产具有重要意义。

简介：<正>今日的半导体行业正在经历着若干充满挑战性的转型过程,不过这也为Soitec为市场与客户创造新增加值带来了巨大机遇。随着传统的CMOS技术的日薄西山—这一点从28nm巨大产量与20nm缺乏吸引力的规格与成本就可以看出,整个半导体产业的发展方向正在转向全耗尽晶体管架构。然而,如果FinFET和其他全耗尽多栅架构只能从14nm开始供货的话,在这之前我们又应当怎样应对呢?早在数年之前,Soitec及其合作伙伴就在开展紧

简介：

简介：集成电路工业从一开始就在使用离子注入技术。如果不利用离子注入的固有的精确性就很难制造极大规模集成电路（VLSI）。特别是离子注入可精确地调整MOSFET的阈值电压。离子注入有三大优点：能达到晶片表面上掺杂剂均匀分布、可精确控制掺杂剂的深度及其分布、可精确控制掺杂剂密度。这些优点催生了所谓“掺杂剂分布工程”，它对早期CMOS的研制成功是一个关键因素。如果没有离子注入就不会有CMOS工艺的快速发展也就不会对我们的生活产生如此深刻的影响。

简介：TSMC于美西时间13日在美国加州圣荷西市举行技术研讨会，会中宣布将跳过22nm工艺，直接发展20nm工艺。此系基于“为客户创造价值”而作的决定，提供客户一个更可行的先进工艺选择。

简介：<正>《电子产品世界》2004年8月报道:世界主要半导体厂商的生产领域已可应用90nm工艺技术,为确保技术优势,已把竞争推向65～70nm级工艺,计划2005年推向量产阶段。Intel去年已采用65nm工艺试制或SRAM产品,计划2005年后投入批量生产。东芝和索尼联手开发出65nmLSI,年初已生产出试制品,2008年上半年跨入大批量生产。三星已开发70nm工艺,计划年末在30nm生产线上量产4GbNAND内存。台积电决定2005年前采用65nm技术开发出SoC平台。采用65nm工艺生产芯片,可使芯片上集成的晶体管数翻一番,性能提高,成本下降。因此,后起半导体企业年底前也须进入90nm以下的超微细加工领域,也是今后存活半导体市场的一大关键。

简介：1965年4月，当时还是仙童公司电子工程师的摩尔在《电子学》杂志上发表文章对半导体产业做出预言——半导体芯片上集成的晶体管数量将每年翻一番。1975年他对此预言做出修正，芯片上集成的晶体管和电阻数量将每两年翻一番。而就在该理论提出时，集成电路才问世6年。而摩尔所在的实验室也只能将50只晶体管和电阻集成在一个芯片上。

简介：WestudiedthespatialevolutionoftheFe-Niplasmageneratedbythefundamental(1064nm)andsecond(532nm)harmonicsofaQ-switchedNd:YAGlaser.Theexperimentallyobservedlineprofilesoftheneutraliron(FeI)havebeenusedtoextracttheplasmatemperature(Te)usingtheBoltzmannplotmethod,whereastheelectronnumberdensity(Ne)hasbeendeter-minedfromtheStarkbroadening.Inaddition,westudiedthespatialbehaviorofTeandNewiththevariationoflaserenergyforironplasmabyplacingthetargetmaterial(iron-nickelalloy)inairatatmosphericpressureforbothmodesoftheNd:YAGlaser.

简介：

简介：1064nm，532nm有在涂层和底层之间的SiO2的缓冲区层的加倍频率的antireflection(AR)涂层被电子横梁蒸发技术在锂triborate(LiB3O5或LBO)的底层上制作晶体。样品的剩余反射分别地在1064nm和532nm是0.07%和0.11%。粘附和样品的导致激光的损坏阀值(LIDT)比200mN和18.6J/cm2大。粘附的加强的机制和SiO2的缓冲区层的LIDT被考虑完整的塑料缩进讨论并且砍一部plated电影的理论，和分裂分别地由热吃惊应力导致了。

简介：摘要：目的：探讨对白癜风皮损患者实施308nm激光及308nm准分光的效果，对其皮损复色模式进行分析。方法：选择2022年8月至2023年8月期间本院接收的白癜风患者40例，共记录皮损80块，根据患者入院时间将其分为甲乙两组，分别采用308nm准分子激光及308准分子光两种方式进行治疗，对不同治疗方式的效果进行汇总。结果：研究结果显示，308nm准分子激光治疗的乙组患者其总有效率高于甲组，两组方式对患者面颈部治疗效果优于其他部位，躯干部位与其四肢及肢端相比较，躯干部位效果更显著，而四肢由于肢端。两组患者研究数据之间存在的差异显著，具有统计学意义。结论：308nm准分子激光与308nm准分子光治疗效果相比较，前者治疗效果更佳，但与308准分子光相比较，308准分子激光对患者皮损周围组织的损伤更小。

简介：摘要目的观察595nm可调脉冲染料激光与1064nm治疗皮肤血管瘤的临床疗效。方法应用595nm可调脉冲染料激光与1064nm治疗2800多例皮肤血管瘤,