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超微细加工及设备

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摘要 TN30595021329相移掩模的计算机模拟方法研究[学,中]/沈锋;中科院光电技术研究所.—62页.—1994.6研究了亚微米微细光刻技术的一个热门领域—相移掩模提高分辨率.从Hopkins理论出发,导出了一般情况下的二维物体的部分相干成像的简化强度

DOI pj0e9nv04y/724403

作者

机构地区不详

出处《中国光学》 1995年2期

关键词相移掩模计算机模拟部分相干成像技术研究所光刻机光刻技术

分类 [理学][物理]

出版日期 1995年02月12日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）