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《半导体光子学与技术:英文版》
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2006年1期
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Design and Manufacture of GeSi/Si Superlattice Nanocrystalline Photodetector
Design and Manufacture of GeSi/Si Superlattice Nanocrystalline Photodetector
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摘要
根据麦克斯韦的理论,在GeSi/Si超点阵nanocrystalline层的光传播特征被分析了并且计算。计算结果证明当全部的厚度L是340nm时,单个模式lightwave能仅仅在周期的数字M15.5被播送。在传播的方向,当传播距离比500m大时,另外,lightwave紧张极大地被减少。基于GeSi/Si超点阵nanocrystalline光电探测器的上述参数,设计和制造被执行。
DOI
0dponlmkj2/415093
作者
LIU Shu-ping JIA Yue-hu
机构地区
不详
出处
《半导体光子学与技术:英文版》
2006年1期
关键词
GESI/SI
超晶格
纳米晶体
光电探测器
光学性质
分类
[电子电信][物理电子学]
出版日期
2006年01月11日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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来源期刊
半导体光子学与技术:英文版
2006年1期
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