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微晶玻璃超光滑抛光过程中抛光剂选型实验研究

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摘要从传统光学冷加工的原理出发，分析了传统接触式加工方法中抛光剂与材料去除深度的理论关系，设计了微晶玻璃超光滑抛光过程中的抛光剂选型试验。通过比较基片的表面质量，摸索出适合微晶玻璃超光滑抛光的最佳抛光剂为金刚石微粉，成功加工出了超光滑微晶光学元件，其表面粗糙度达到0．2nm。

DOI 3j73p2mv41/1533353

作者袁顺山;程子清;陈光

机构地区不详

出处《光学与光电技术》 2015年4期

关键词微晶玻璃超光滑表面抛光表面粗糙度

分类 [机械工程][光学工程]

出版日期 2015年04月14日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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来源期刊

光学与光电技术

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