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浅析真空镀膜显现潜在手印技术

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摘要介绍了真空镀膜技术的基本概念、发展现状、真空条件下镀膜所需的真空条件、手印显现原理、适用范围以及与显现非渗透性客体适用性最广的“502”熏显法之间的比较和增强处理。

DOI pd5e86erd7/1459123

作者李孝君;黄涪江;韩柯;吴浩

机构地区不详

出处《警察技术》 2015年1期

关键词真空镀膜潜在手印显现增强处理

分类 [政治法律][中外政治制度]

出版日期 2015年01月11日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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来源期刊

警察技术

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