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我国最新一代集成电路制造工艺研发取得突破性进展

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摘要中国科学院微电子研究所集成电路先导工艺研发中心在22纳米技术代集成电路关键技术研发上取得突破性进展。掌握这种最先进的集成电路制造工艺将有利于提升我国自主生产制造更加质优价廉的集成电路产品的能力。采用22纳米集成电路技术可以在一根头发丝的横截面上集成大约1000万个晶体管，从而使集成电路产品的功能更多样化，

DOI 0dpvmlpwd2/1202969

作者

机构地区不详

出处《纳米科技》 2012年6期

关键词集成电路制造工艺研发中心突破性纳米技术集成电路技术电子研究所

分类 [一般工业技术][材料科学与工程]

出版日期 2012年06月16日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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纳米科技

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