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半导体单晶抛光片清洗工艺分析

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摘要摘要半导体单晶抛光片是当前一种十分重要的材料，对于大规模集成电路和半导体器件的应用有着巨大的作用。本文主要以硅、砷化镓、锗等半导体单晶抛光片为例，对其清洗工艺和清洗机理进行了研究。具体来说，先采用氧化性的溶液在抛光片表面产生氧化膜，然后再将形成的氧化膜去除，从而实现抛光片表面杂质和污染物的清除。

DOI ojnxpk55dr/3017213

作者叶宏

机构地区厦门市三安集成电路有限公司福建省厦门市361000

出处《基层建设》 2019年1期

关键词半导体单晶抛光片清洗工艺

分类 [建筑科学][建筑设计及理论]

出版日期 2019年01月11日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）