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质子辐照对130nm部分耗尽SOI MOS器件栅氧经时击穿可靠性的影响
质子辐照对130nm部分耗尽SOI MOS器件栅氧经时击穿可靠性的影响
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摘要
利用10MeV质子对130nm部分耗尽SOIMOS器件进行辐照,测试了在不同辐照吸收剂量下,器件的辐射诱导泄漏电流和栅氧经时击穿寿命等参数,分析了质子辐照对器件TDDB可靠性的影响.结果表明:质子辐照器件时,在Si-SiO2界面产生的界面陷阱电荷,增加了电子跃迁的势鱼高度,减少了电荷向栅极的注入,减小了器件的RILC,增加了器件的TDDB寿命.
DOI
kd2zryyed6/1806138
作者
马腾;崔江维;郑齐文;魏莹;赵京昊;梁晓雯;余学峰;郭旗
机构地区
不详
出处
《现代应用物理》
2017年4期
关键词
辐射诱导泄漏电流
栅氧经时击穿
可靠性
质子辐照
部分耗尽SOI
分类
[理学][物理]
出版日期
2017年04月14日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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来源期刊
现代应用物理
2017年4期
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