质子辐照对130nm部分耗尽SOI MOS器件栅氧经时击穿可靠性的影响

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摘要 利用10MeV质子对130nm部分耗尽SOIMOS器件进行辐照,测试了在不同辐照吸收剂量下,器件的辐射诱导泄漏电流和栅氧经时击穿寿命等参数,分析了质子辐照对器件TDDB可靠性的影响.结果表明:质子辐照器件时,在Si-SiO2界面产生的界面陷阱电荷,增加了电子跃迁的势鱼高度,减少了电荷向栅极的注入,减小了器件的RILC,增加了器件的TDDB寿命.
机构地区 不详
出处 《现代应用物理》 2017年4期
出版日期 2017年04月14日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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