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光波导材料与制备

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摘要 TN2522002010395紫外写入SiO2平面光波导制作新方法研究（三）:光波导制作=Fabricationofplanarsilicawaveguidesbydi-rectUVwriting[刊,中]/葛璜,安贵仁,周凯明（中科院半导体所.北京（100083））,孙明武（中国建材科学研究院玻璃所.北京（100024））∥光子学报.—2000,29（Z1）.—399-403

DOI 9odw1zyejk/141908

作者

机构地区不详

出处《中国光学》 2002年1期

关键词平面光波导离子交换光波导光子学新方法研究制备工艺半导体

分类 [理学][物理]

出版日期 2002年01月11日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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来源期刊

中国光学

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