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2020年29期
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半导体激光切割工艺专利技术浅析
半导体激光切割工艺专利技术浅析
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摘要
摘要:研究了激光切割半导体的应用价值和特点,分析了截止2016年10月涉及半导体激光切割工艺的专利申请,并针对相关专利申请的国内外来华申请量趋势、主要国外来华国家和来华申请人以及切割工艺种类进行了分析研究。
DOI
54ye91okj0/5041704
作者
禹业晓
机构地区
国家知识产权局专利局专利审查协作广东中心
出处
《科学与技术》
2020年29期
关键词
半导体
激光切割
特点
复合切割
分类
[建筑科学][建筑技术科学]
出版日期
2021年02月24日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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来源期刊
科学与技术
2020年29期
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